拋光處理是金屬從凸處移到凹處，形成無定形層，或很細(xì)的金屬晶體層；也有研究者用電子顯微鏡的研究證實，拋光表面的外層被粉碎成不規(guī)則的，很細(xì)的結(jié)晶狀態(tài)，等等。化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光的反應(yīng)機(jī)理的簡單說法是：對鋁件或鋁合金制件的微觀凹凸不平的表面組織進(jìn)行選擇性的溶解，來有效地整平和拋光鋁件表面，從而提高其表面光潔度。

　　對鋁件及其合金來說，機(jī)械拋光處理雖能獲得平整度，卻不能獲得類似化學(xué)或電化學(xué)拋光的光亮度。鋁氧化加工化學(xué)氧化氧化膜較薄，厚度約為0.5～4微米,且多孔，質(zhì)軟，具有良好的吸附性，可作為有機(jī)涂層的底層，但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜。拋光氧化加工和純鋁拋光氧化雖然看起來相似，但本質(zhì)上兩者是不同的，因為在亮度方面，后者要比前者高得多。此外，原材料的組成也不同。至于拋光和氧化，拋光的主要目的是提高產(chǎn)品表面的光滑度和手感。為此機(jī)械拋光處理后直接進(jìn)行陽極氧化所獲的膜層是無金屬光澤的，甚至比不上未經(jīng)機(jī)械拋光處理部位，猶如搪瓷、油漆層。機(jī)械拋光處理雖然不能替代化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光，但化學(xué)拋光、電化學(xué)拋光之前先經(jīng)機(jī)械拋光還是十分必要的，材料表面的劃痕等損傷部位如未經(jīng)機(jī)械拋光，在化學(xué)或電化學(xué)拋光工序中是無法除去的。