硬質(zhì)氧化采用的設(shè)備比較簡單，投資少，占地面積少，操作方便，易于掌握。其設(shè)備由以下幾個(gè)部分組成。

　　（1）制冷與熱交換的裝置：為了在鋁制品上獲得硬質(zhì)氧化膜，必須在低溫下進(jìn)行氧化處理，才能將由于在高電壓、高電流下產(chǎn)生的熱量帶走，因此冷卻氧化液起著重要作用。一般工廠常采用冷凝量達(dá)9000 kcal/h(1cal=4.1840J)的冷動(dòng)機(jī)組對(duì)氧化溶液進(jìn)行強(qiáng)制降溫。

　　（2）硬質(zhì)陽極氧化處理槽：硬質(zhì)陽極氧化處理槽常采用鋼制礦渣棉保溫鉛襯里制作槽。條件不具備時(shí)，為簡便起見，也可以用木板、鋼筋混凝土制作槽體，再涂上防腐襯里。槽體內(nèi)還需配備一定的冷卻蛇形管、壓縮空氣攪拌管、陰極板、多孔塑料軟隔板和導(dǎo)電支架等。槽體的大小和冷卻管的設(shè)計(jì)應(yīng)根據(jù)零件的大小、生產(chǎn)的批量和冷凍機(jī)組的功率進(jìn)行考慮。

　　（3）溶液溫度控制、攪拌及通風(fēng)系統(tǒng)：硬質(zhì)陽極氧化過程中，溶液的溫度控制和攪拌對(duì)硬質(zhì)陽極氧化工藝來說是個(gè)重要的問題。通常溫度較低（-5-+5℃或-10-+10℃）時(shí)，氧化膜具有較高的電阻，但為了獲得厚的氧化膜層，氧化過程中勢(shì)必要逐漸外加電壓，消除因高電阻影響而保持一定的電流密度，使氧化過程繼續(xù)進(jìn)行。當(dāng)電流通過氧化膜層時(shí)，因產(chǎn)生大量的焦耳熱，外加氧化膜的生成熱，使制件附近的氧化膜與其基體金屬接界處溫度上升，甚至燒壞零件，因此嚴(yán)格控制溫度是必要的。

　　不少工廠采用半導(dǎo)體溫度計(jì)（-50-+50℃），使用方便可靠。還有的采用-20-+100℃的水銀溫度計(jì)，便是由于玻璃制品，容易碎，使用久了刻度就會(huì)模糊不清，但一次投資少。氧化過程中的發(fā)熱現(xiàn)象常采用攪拌的方法消除。壓縮空氣攪拌應(yīng)保持壓縮空氣的干凈，不能使油、水帶入溶液內(nèi)。氧化過程中，由于溫度低，剌激性氣味少，條件不具備時(shí)，可以不考慮抽風(fēng)裝置，但鍍前處理的除油、酸腐蝕、化學(xué)拋光等應(yīng)在良好的抽風(fēng)條件下進(jìn)行。

　?。?）夾具：硬質(zhì)陽極氧化處理的夾具設(shè)計(jì)、制造和選擇對(duì)于氧化處理的質(zhì)量有很在的關(guān)系，其設(shè)計(jì)的原則是：裝卸方便，工件緊固要牢，接觸導(dǎo)電好，不變形。夾具結(jié)構(gòu)的形式應(yīng)根據(jù)氧化處理零件形狀、結(jié)構(gòu)和大小而定。

　　（5）電流設(shè)備：硬質(zhì)陽極氧化處理采用的電源設(shè)備與一般陽極氧化處理大體相同。硬度陽極氧化處理也常用直流電源，有的還有采用直流電上疊加交流電源[其比例為（4：1）-（6：1）]。硬質(zhì)陽極氧化處理采用的電流、電壓比一般陽極氧化處理的要高。

　　1）真正符合美軍標(biāo)mil 8625規(guī)范的硬質(zhì)氧化30-120um hv>420。三新?lián)碛羞M(jìn)口軍工級(jí)千分之一紋波系數(shù)的硬質(zhì)氧化全自動(dòng)電源，能確保硬質(zhì)氧化品質(zhì)高于市面大多數(shù)采用普通硅整流電源和開關(guān)電源處理的產(chǎn)品。

　　2）2xxx 7xxx等較大難度工件的硬質(zhì)氧化。

　　3）混酸型硬質(zhì)氧化：三新專利配方，韌性提高，硬質(zhì)氧化開裂狀況明顯減少。

　　4）壓鑄鋁合金的硬質(zhì)氧化：三新消化sanford交直流疊加技術(shù)加工壓鑄鋁件，典型材料ADC12的膜厚可達(dá)25um以上，其他可達(dá)35um以上。

　　5）自潤滑封閉（特氟龍）的復(fù)合硬質(zhì)氧化：最新技術(shù)，采用三新代理的德國納米氟封閉劑（請(qǐng)區(qū)別氧化后的特氟龍涂裝）進(jìn)行硬質(zhì)氧化后處理。

　　6)控制閥、印刷機(jī)、摩配、汽配、煙機(jī)、流體液壓元件、紡織機(jī)、空壓機(jī)、縫紉機(jī)、精密數(shù)控、工模具、氣動(dòng)元件、日用廚具、航空接頭等元件配件硬質(zhì)氧化處理。

　　7)應(yīng)用于高絕緣領(lǐng)域的復(fù)合硬質(zhì)氧化：三新專利產(chǎn)品"氮化鋁復(fù)合硬質(zhì)氧化"成功用于高散熱LED散熱鋁基板，成功替代鋁基覆銅板。